（词林正韵）
文/冯志清（上海）
中华网2024年9月11日18时传来喜讯：仅次于光刻！我国半导体制造核心技术一一氢离子注入核心技术 实现突破！该技术产业链原短板一一600V以上高压功率芯片长期依赖进口，已打破国外垄断，补齐产业链，实现100％国产！
消息称。近日，国家电投所属国电投核力创芯（无锡）科技有限公司（以下简称“核力创芯”）暨国家原子能机构核技术（功率芯片质子辐照）研发中心，在不到三年的时间里，突破多项关键技术壁垒，实现了 100% 自主技术和 100% 装备国产化，建成了我国首个核技术应用和半导体领域交叉学科研发平台。首批交付客户的芯片产品经历了累计近万小时的工艺及可靠性测试验证，主要技术指标达到国际先进水平，获得用户高度评价。
今天（9月12日）凌晨，笔者志清查询公开科技资料“关键词”显示：“氢离子注入”是半导体晶圆制造中仅次于光刻的重要环节。“氢离子注入”技术在集成电路、功率半导体、第三代半导体等多种类型半导体产品制造过程中起着关键作用。此前，该领域核心技术及装备工艺的缺失严重，长期制约了我国半导体产业的高端化发展，特别是600V以上高压功率芯片长期依赖进口。
笔者志清欣喜地获悉，如今，国家电投所属国电投核力创芯（无锡）科技有限公司（以下简称“核力创芯”）暨国家原子能机构核技术（功率芯片质子辐照）研发中心，历经三年“卧薪尝胆”，完成首批氢离子注入性能优化芯片产品客户交付。一举打破了“美欧芯片供应链”的长期对中国的垄断、封锁、制裁与打压！这标志着我国已全面掌握功率半导体高能氢离子注入核心技术和工艺，补全了我国半导体产业链中“仅次于光刻”缺失的重要一环，为中国半导体离子注入设备和工艺的全面国产替代奠定了基础。真是可喜可贺！因此特赋《解红》为评为贺。
半导体，
破封围。
注氢仅次光刻机。
补短高功打通链，
创芯喜闻解难题。
一一2024年9月12日凌晨时事诗评
作者简介：
冯志清，男，中共党员，大学本科，在职工商管理硕士，高级政工师、经济师，化工企业多年公司党 委书 记、董事长，中华诗词学会会员、上海诗词学会会员。曾兼任：中国化工政研会常务理事、中国化工报社记协特约记者兼顾问、中国化学试剂工业协会第5～7届副理事长、上海市职工政研会理事兼特约研究员、中国化工文化艺术联合会常务理事、中国化工作家协会第1～3届副主席和1～4届理事、顾问；中国文学艺术联盟签约作家、上海诗社会员、冰心文化传媒网顾问、《2019年中国诗歌大典》副主编、2020年《古韵新风》第一册常务副总编、2023年《古钧新吟》执行主编、新上海诗社副总编、天下诗词文学时事评论员。1983年起，有各种论文、报告文学、散文、诗词在中央、部、直辖市等媒体发表或收录。
